中微公司(688012.SH)发布六款半导体设备新产品-乐居财经

原创 <{$news["createtime"]|date_format:"%Y-%m-%d %H:%M"}> 乐居财经 4066阅读 2025-09-04 21:18

Ai快讯 中微公司（688012.SH）近日宣布推出六款创新的半导体设备新产品，涵盖了刻蚀设备与薄膜沉积设备两大领域。此次发布的新品旨在进一步巩固并拓展公司在半导体制造设备市场的地位。

在刻蚀设备方面，中微公司推出了新一代极高深宽比等离子体刻蚀设备PrimoUD-RIE®以及专注于金属刻蚀的PrimoMenova™12寸ICP单腔刻蚀设备。这两款设备分别针对极高深宽比刻蚀和金属刻蚀领域的需求设计，旨在满足先进半导体工艺对刻蚀技术的严格要求。

薄膜沉积设备方面，中微公司带来了三款原子层沉积产品和一款外延产品。其中，PreformaUniflash®金属栅系列和PRIMIOEpita®RP双腔减压外延设备备受瞩目。这些新产品不仅丰富了公司的薄膜沉积设备产品线，更为客户提供更多样化的技术解决方案。

据中微公司预计，这些新产品的推出将对公司未来在半导体设备市场的拓展和业绩成长性产生积极影响。然而，鉴于这些新产品尚处于市场导入初期，公司将面临市场推广和客户验证等方面的挑战。这些因素可能对公司未来的收入和盈利带来一定的不确定性。

（AI撰文，仅供参考）

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